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제목 국내 첫 EUV 기술 Conference 발표 (19.5.29)
등록일 2019-07-26 조회수 455

내달 국내 최초 ‘EUV 기술 콘퍼런스’ 열려, ‘삼성전자·SK하이닉스·멘토 지멘스 비즈니스’ 등도 참석'


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반도체 미세공정 한계를 극복할 ‘극자외선(EUV)’ 기술 콘퍼런스가 다음 달 19일 국내에서 처음으로 열린다.

29일 한국반도체연구조합은 오는 6월 19일 서울 양재동 엘타워에서 ‘반도체 EUV 기술 글로벌 콘퍼런스’를 개최할 예정이라고 밝혔다.

이날 콘퍼런스에는 삼성전자, SK하이닉스, 멘토 지멘스 비즈니스, KLA, 에드워드, JSR-EM, 칼자이스 SMT, 인테그리스 등 EUV 생태계에 속한 국내외 다양한 소자 장비 재료 회사가 참석해 EUV 기술과 향후 시장 전망을 조망할 예정이다

   

EUV는 반도체 원재료인 웨이퍼에 빛을 쬐여 회로 패턴을 그리는 노광 공정에 사용되는 장비를 말한다.

이는 빛 파장이 13.5nm(nanometer·나노미터)로 현재 첨단 반도체 양산 라인에서 쓰이는 불화아르곤(ArF) 액침 장비(193㎚)보다 짧다.

빛 파장이 짧으면 더 미세하게 회로 패턴을 새길 수 있다. EUV를 활용해 각 회로 레이어별로 여러 번 새길 패턴을 한 번에 새길 수 있다면 원가를 대폭 절감할 수 있다.

한편, 이번 행사는 한국반도체산업협회와 한국반도체연구조합이 주최하고 전자부품 전문미디어 디일렉이 주관한다.  

 

 

(기사 링크 :  http://www.zdnet.co.kr/view/?no=20190529164608 )